儀器簡(jiǎn)介

SEM形貌分析設(shè)備

性能指標(biāo)

分辨率：1.3nm (20 KV) ；加速電壓：0.02-30KV ；探針電流：4 pA-20 nA ；放大倍數(shù)：10-1000 000X

應(yīng)用范圍

場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，SIGMA HD配有in-lens二次電子探測(cè)器的GEMINI鏡筒，樣品室二次電子探測(cè)器、背散射電子探測(cè)器和CCD攝像機(jī)等四種類(lèi)型的探測(cè)器，樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制，能夠提供出色的分辨率和亮度，適用于樣品形貌的清晰成像。具有高真空和可變壓力模式，實(shí)現(xiàn)了分析型場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高清晰成像，并能夠在低加速電壓下（750V-3kV）和低探針電流下對(duì)樣品成像。

工藝圖：